可稳定调控氡子体状态参数的装置，包括单分散性气溶胶产生单元、小体积氡室、充源调控回路、氡子体状态参数调控回路、采样监测回路；所述单分散性气溶胶产生单元用于向小体积氡室中按照不同流率稳定输入一定浓度和粒径的单分散性气溶胶，其包括单分散性气溶胶发生器、与所述单分散性气溶胶发生器连接的气溶胶稀释器以及与所述气溶胶稀释器连接的分流器，所述分流器连接小体积氡室；所述小体积氡室中间段呈圆柱形、两端呈圆台形，以保证气流在其腔室内流动均匀；所述充源调控回路包括调控管路A，所述调控管路A的进气端连接小体积氡室的一端，所述调控管路A的回气端连接小体积氡室的另一端，所述调控管路A上安装有氡源室及循环泵A；所述氡子体状态参数调控回路包括调控管路B，所述调控管路B的进气端连接小体积氡室的一端，所述调控管路B的回气端连接小体积氡室的另一端，所述调控管路B上安装有循环泵B；所述采样监测回路用于监测调控过程中小体积氡室内的气溶胶粒子数浓度和氡及其子体浓度等参数，所述采样监测回路包括采样管路，所述采样管路的进气端连接小体积氡室的一端，所述采样管路的回气端连接小体积氡室的另一端，所述采样管路上安装有氡浓度监测仪、氡子体监测仪和凝结核计数器。
