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Substrate Bias Effects on High Temperature Oxidation Resistance Performance of Arc Ion Plating Cr-Coated Zr-4 [电弧离子镀基体偏压对铬涂层Zr-4合金高温抗氧化性能的影响]

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成果类型:
期刊论文
作者:
黄景昊;余清远;肖魏魏;邹树梁;唐德文;...
作者机构:
南华大学资源环境与安全工程学院
南华大学核设施应急安全作业技术与装备湖南省重点实验室
南华大学核科学技术学院
南华大学机械工程学院
中建市政工程有限公司
语种:
中文
关键词:
电弧离子镀膜;基体偏压;Cr涂层;高温氧化性能
关键词(英文):
Chromium metallography;Crystal structure;Diffusion coatings;Inorganic coatings;Ion implantation;Oxidation resistance;Scanning electron microscopy;Surface morphology;Thermooxidation;Zircaloy;After high temperature;Bonding strength;Different substrates;Diffusion layers;High temperature;Oxidation layers;Protective effects;Substrate bias effects;Morphology
期刊:
核动力工程
ISSN:
0258-0926
年:
2021
卷:
42
期:
S1
页码:
121-127
基金类别:
核反应堆系统设计技术重点实验室基金(HT-KFKT-10-2018002);
机构署名:
本校为第一机构
院系归属:
机械工程学院
核科学技术学院
环境与安全工程学院
摘要:
采用电弧离子镀膜技术在Zr-4合金表面制备4组不同基体偏压的铬(Cr)涂层,研究基体偏压对Zr-4合金高温抗氧化性能的影响。利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)技术对Cr涂层的微观结构和物相构成进行表征,分析基体偏压对Cr涂层高温氧化性能的影响。研究结果表明,基体偏压对Cr涂层晶体结构、表面和截面微观形貌、结合强度、抗高温氧化性能均有非常显著影响;Cr涂层经高温氧化后主要分化为3层结构:Cr2O3氧化层、残余Cr层和Cr-Zr扩散层;基体偏压为-100 V时涂层表面团聚物尺寸最小,表面未出现明显裂纹,涂层中仍留有残余Cr层,氧化增重最低,涂层致密性和结合性能最好。因此,基体偏压为-100 V时...
摘要(英文):
Four groups of Cr coatings with different substrate bias are prepared on the surface of Zr-4 alloy by using arc ion plating technology to study the effect of substrate bias on the high-temperature oxidation resistance of Zr-4 alloy. Scanning electron microscope (SEM) and X-ray diffraction (XRD) are used to characterize the microstructure, and the defects of Cr coating with different substrate bias after oxidation at 1200℃ are studied. The results showed that substrate bias had significant effect on the crystal structure, surface morphology, th...

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