版权说明 操作指南
首页 > 成果 > 详情

High Temperature Oxidation Resistance of Magnetron Sputtering and Multi-arc Ion Plating Cr Films on Zirconium Alloy

认领
导出
下载 Link by 中国知网学术期刊 Link by 万方学术期刊
反馈
分享
QQ微信 微博
成果类型:
期刊论文
作者:
黄鹤;邱长军;陈勇;胡良斌;刘艳红;...
通讯作者:
Qiu, Chang-Jun(qiuchangjum@hotmail.com)
作者机构:
[邱长军; 陈勇; 胡良斌; 黄鹤] School of Mechanical Engineering, University of South China, Hengyang, Hunan, 421001, China
[李怀林; 刘艳红] State Power Investment Corporation Central Research Institute, Beijing, 102209, China
语种:
中文
关键词:
磁控溅射;多弧离子镀;Cr 涂层;孔洞;高温抗氧化性能
关键词(英文):
multi-arc ion plating(MAIP);Cr films;holes;high temperature oxidation resistance
期刊:
中国表面工程
ISSN:
1007-9289
年:
2018
卷:
31
期:
2
页码:
51-58
基金类别:
国家科技重大专项(2015ZX06004001-002) 湖南省重点学科建设(湘教发[2011]76) 湖南省高校重点实验室基金(湘教发[2014]85)
机构署名:
本校为第一机构
院系归属:
机械工程学院
摘要:
为了研究磁控溅射(MS)和多弧离子镀(MAIP)技术制备Cr涂层的高温抗氧化性能,分别在锆合金表面制备厚度约5 μm的Cr涂层.利用氧化动力学曲线对比研究800 ℃条件下涂层的高温抗氧化性能,利用SEM、XRD、 EDS分析涂层表面形貌和相结构.结果表明:磁控溅射和多弧离子镀Cr涂层均能显著提高锆合金的高温抗氧化性能;磁控溅射Cr涂层表面光滑、致密,但涂层表面存在一定数量的孔洞,占涂层表面积0.40%,氧化7 h后涂层表面出现裂纹,单位面积氧化增重6.434 mg/cm~2;与磁控溅射Cr涂层相比,多弧离子镀Cr涂层不再有(211)单一择优取向,Cr涂层厚度均匀,表面平整,膜/基界面分明,孔洞相对较少,占涂层表面积0.21%,氧化7 h...
摘要(英文):
In order to study the high temperature oxidation resistance of Cr films deposited using magnetron sputtering (MS) and multi-arc ion plating (MAIP) methods, Cr films with a thickness of approximately 5 μm were deposited on the surface of zirconium alloy through different methods. The oxidation kinetics curve was used to compare the high temperature oxidation resistance of the coating at 800℃. Microstructure and phase structure of the films were investigated by SEM, XRD and EDS, respectively. The results show that the high temperature oxidation resistance of zirconium alloys is signific...

反馈

验证码:
看不清楚,换一个
确定
取消

成果认领

标题:
用户 作者 通讯作者
请选择
请选择
确定
取消

提示

该栏目需要登录且有访问权限才可以访问

如果您有访问权限,请直接 登录访问

如果您没有访问权限,请联系管理员申请开通

管理员联系邮箱:yun@hnwdkj.com