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大功率射频离子源驱动器等效阻抗特性分析

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成果类型:
期刊论文
论文标题(英文):
Analysis of equivalent impedance characteristics of a high power RF ion source driver
作者:
阳璞琼;刘波;蒋才超;韦江龙;谢亚红;...
通讯作者:
Jiang, C.
作者机构:
[阳璞琼; 刘波] School of Electrical Engineering, University of South China, Hengyang, 421001, China
[谢亚红; 韦江龙; 潘军军; 蒋才超; 胡纯栋] Institute of Plasma Physics, Hefei Institutes of Physical Science, Chinese Academy of Sciences, Hefei, 230031, China
通讯机构:
[Jiang, C.] I
Institute of Plasma Physics, China
语种:
中文
关键词:
中性束注入系统;感性耦合等离子体;变压器模型;射频离子源等效模型
关键词(英文):
Inductively coupled plasma;Neutral beam injection system;Radio frequency ion source equivalent model;Transformer model
期刊:
核技术
ISSN:
0253-3219
年:
2021
卷:
44
期:
8
页码:
080603
基金类别:
国家自然科学基金(No.1 1975263 、No.1 1675074 )、聚变堆主机关键系统综合研究设施项目(No.2018-000052-73-01-001228)和衡阳市科技计划 项目(No.202002042159)资助 第一作者:阳璞琼,男,1980年出生,2015年于核工业西南物理研究院获博士学位,研究领域为核能科学与工程、电力电子技术 通信作者:蒋才超,E-mail:jcch@ipp.ac.cn 收稿日期:2021-03-05,修回日期:2021-05-07 Supported by National Natural Science Foundation of China (No.1 1975263 , No.1 1675074 ), Comprehensive Research Facility for Fusion T echnology (No.2018-000052-73-01-001228), Hengyang Science and T echnology Plan Project (No.202002042159) First author:Y ANG Puqiong, male, born in 1980, graduated from the Southwest Institute of Physics with a doctoral degree in 2015, focusing on researchofnuclearenergyscienceandengineering,powerelectronicstechnology Corresponding author: JIANG Caichao, E-mail: jcch@ipp.ac.cn Received date: 2021-03-05, revised date: 2021-05-07
机构署名:
本校为第一机构
院系归属:
电气工程学院
摘要:
离子源是中性束注入系统的核心部件之一,射频离子源具备稳态运行的能力,成为未来中性束用离子源的主要备选源。在射频离子源中,阻抗匹配的合理设计和有效调谐是实现高功率稳定等离子体放电的核心,而驱动器的等效阻抗决定了阻抗匹配网络的设计,故对其特性的分析是必不可少的。基于射频等离子体变压器模型建立了射频离子源驱动器等效阻抗计算的解析模型,通过计算获得了驱动器等效阻抗随等离子体电子密度的变化特性,为阻抗匹配网络的合理设计及阻抗匹配调谐提供了参考。该模型能够较为快速准确地计算得出不同气压下驱动器内的电子温度,得出的不同气压和电子密度下的等效阻抗变化特性也与同类射频离...
摘要(英文):
Background: The ion source is one of the key components of the neutral beam injection system. Radio frequency (RF) ion source has the advantages of long life time, easy maintenance and long pules operation, which make it the main alternative source for the neutral beam ion source in the future. Purpose: This study aims to analyze equivalent impedance characteristics of a high power RF ion source driver with emphasis on the impedance matching network and effective tuning of matching network to achieve high-power and stable plasma discharge. Meth...

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